據路透引述消息人士稱，中國成功打造一台EUV光刻機的原型機。(資料圖片/路透社)
據路透引述消息人士稱，中國科學家今年初在深圳打造出一台極紫外光（EUV）光刻機的原型機，將用於生產尖端晶片，這些晶片將能用於人工智能（AI）、智能手機，以及現代武器系統。
報道指，這項被形容為「中國曼哈頓計劃」的秘密工程項目，反映中國銳意在AI晶片技術領域與西方匹敵。「曼哈頓計劃」是二戰時，美國秘密研製原子彈的計劃。
報道稱，這台EUV光刻機是由荷蘭晶片設備製造商ASML的前工程師打造，他們對ASML的EUV光刻技術進行逆向工程。該原型機能夠成功產生EUV，但尚未製造晶片，中方的目標是在2028年實現晶片生產，但有可能到2030年才實現量產。
EUV光刻機是利用極紫外光在晶圓上蝕刻出超精細電路，從而能夠生產7納米以下製程的晶片。中國的目標是使用國產的設備生產晶片，從而擺脫依賴美國及其盟友的供應鏈。
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