報道指中國取得突破挑戰ASML 國產DUV光刻機開始量產

中國製造晶片技術被指取得突破，在減少對外國依賴方面邁進關鍵一步。報道稱，內地已開始自行生產自主研發的浸沒式深紫外(deep ultraviolet 、DUV)光刻機。這項技術對先進晶片製造十分重要，目前由荷蘭艾斯摩爾ASML佔有主導地位，短期內難被撼動，但中國自主研發的DUV光刻機最終可能會挑戰ASML在中國的地位。

美國新聞網站The Information周一最先報道有關消息，引述知情人士指上海一間國企已開始生產DUV光刻機，計劃今年生產約5部，2027年則增產至約20部。由於事關敏感，知情人士並未透露這間具國企背景的上海製造商身份，但這間公司已從上海宇量昇科技等其他內地企業抽調人員，組建研發團隊。路透社昨則引述消息人士稱，該國企為上海愛晟納電子科技集團，在吸納了來自中國頂尖光刻初創公司的團隊後正主導DUV光刻機量產。

料年內交付長鑫、中芯國際等晶片製造商

The Information引述知情人士稱，這些國產DUV光刻機預計將於今年交付給中國主要晶片製造商，包括中芯國際、華虹半導體和長鑫科技。路透社指出，內地國產DUV光刻機預計還需要進一步測試，且仍與ASML的同類產品有較大差距。但國產DUV光刻機一旦成功部署，若西方政府進一步限制外國光刻設備對中國出口或在中國的相關維護服務，這將為中國晶片製造商提供一個替代來源。DUV光刻機利用投影鏡頭與矽片之間的水層，能夠印製出比傳統幹式系統更精細的電路圖案。這類設備不僅用於生產多種類型的晶片，還可以通過多重曝光技術——即對同一層進行反覆曝光——來製造更先進的半導體。

美國已禁止中國購買ASML最先進的極紫外(EUV)光刻機，而荷蘭的出口管制措施也限制中方獲取部分先進DUV光刻機。路透社稱，即使中方正致力於實現技術自給自足，但中國市場依然是ASML重要的收入支柱，佔該公司上半年淨銷售額約16%。雖無法購得EUV光刻機，但中國晶片製造商仍大量採購技術相對較低的DUV光刻機。路透社去年12月曾稱，中國已成功製造出一台EUV光刻機原型機，但該技術距離投入量產尚需數年時間。