Frank Rohmund認為，中國在尖端晶片晶片製造設備的研發方面落後，仍需要15年才能研發出EUV光刻機。(蔡司官網圖片)
德國光學公司蔡司（Zeiss）半導體部門負責人Frank Rohmund認為，中國在尖端晶片晶片製造設備的研發方面落後，仍需要15年才能研發出極紫外（EUV）光刻機，形容15年研發出EUV是「合理的假設」（reasonable assumption）。他亦指，中國的進步很難量化。
Frank Rohmund在彭博電視台表示，北京方面數十年來一直在研發這類技術，對於近期中國取得技術進展時，並不感到意外，強調現在需要觀察這些設備的實際能力，又直言「我們仍然遙遙領先」（We are still way ahead）。
早前，有瑞銀分析師在本周指，中國距離開發出國產EUV技術或至少還有10年。
蔡司是艾斯摩爾（ASML）EUV設備所使用光學系統的獨家供應商，同時為因應AI熱潮帶動的晶片需求，蔡司也已擴建位於德國上科亨（Oberkochen）的總部，以增加生產設施及產能，以及正在另一處地點興建新工廠。
7月時The Information報道指，上海一間國企已開始生產自主研發的浸沒式深紫外（DUV）光刻機，計劃今年生產約5部，向中芯國際（981）、華虹半導體（1347），以及長鑫科技等內地公司交付，而明年產量的目標增至約20部。路透其後報道，相關企業為上海愛晟納電子科技集團，目前國產DUV光刻機仍處於測試及驗證階段，各方面性能與ASML光刻機仍存明顯差距。
